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金宏气体:高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节_蜘蛛资讯网

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提问时表示,高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节;氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

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p;证券日报网4月21日讯,金宏气体在接受调研者提问时表示,高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节;氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

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发布时间:13:41:01